集微网报导，前有半导体资料制作商JSR被日本政府支撑的出资公司（JIC）收买，后有光刻胶供货商陶氏化学（Dows Chemical）坐落美国路易斯安那州的工厂发生爆破，光刻胶作为光刻工艺中的要害资料，再度引起业界广泛注重。
光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光灵敏的混合液体。其组成部分包含光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以经过光化学反响，经曝光、显影等光刻工序将所需求的微细图形从光罩（掩模版）搬运到待加工基片上。依据下流使用不必，基片可以分为集成电路、显现面板、PCB等范畴。
得益于广泛的使用范畴，光刻胶的重要性显而易见。但该商场现在被日、美两国企业独占，其它各国/区域也纷繁布局，企图迎头赶上。我国企业在这一范畴的开展怎么？
光刻是整个集成电路制作进程中耗时最长、难度最大的工艺，耗时占IC制作50%左右，本钱约占IC出产本钱的1/3。
光刻是将图形由掩膜版上搬运到硅片上，为后续的刻蚀进程作预备。在光刻进程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，在经过显影后，被曝光的光刻胶将被去除，然后完结将电路图形由掩膜版搬运到光刻胶上。再经过刻蚀进程，完结电路图形由光刻胶搬运到硅片上。在刻蚀进程中，光刻胶起到防腐蚀的维护效果。
依据使用范畴不同，光刻胶可以分为面板光刻胶（也称“LCD光刻胶”）、PCB光刻胶和半导体光刻胶（也称“芯片光刻胶”）。三种光刻胶的出产技能难度有所不同，面板光刻胶出产难度较低，而半导体光刻胶出产门槛较高。依据功能指标的不同，半导体光刻胶又分为G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶、LCD光刻胶分为五颜六色光刻胶、黑色光刻胶、触摸屏光刻胶及TFT-LCD光刻胶；PCB光刻胶分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶及阻焊油墨。
在半导体光刻胶中，一般来说，曝光光源波长越长，则技能杂乱程度越低，因而G（436nm）/I线nm）光刻胶技能难度较低，其次是KrF（248nm）光刻胶和ArF（193nm）光刻胶，技能难度最高的是EUVEUV（13.5nm）光刻胶。
光刻胶被誉为电子化学品工业“皇冠上的明珠”，其功能直接影响到集成电路芯片上的集成度、运转速度及功耗等功能，因而要求光刻胶具有高分辨率、强粘附性、杰出的耐热性、耐碱性、抗蚀性、工艺宽容度大等特性，高壁垒和高价值量是典型特征。
从全体商场规划来看，Reportlinker的数据显现，全球光刻胶商场估计2019-2026年年复合增长率（CAGR）有望到达6.3%，至2023年打破100亿美元，2026年超越120亿美元，商场前景宽广。我国商场增速高于全球，2022年规划有望超越百亿元人民币，到2026年全球占比或将进步到19.3%。
从细分商场来看，SEMI统计数据显现，2021年全球IC光刻胶商场规划达24.7亿美元，我国增速超全球两倍；LCD光刻胶商场2020年全球规划近14亿美元，2021-2026年CAGR为2%，我国获益工业搬运和本乡面板厂兴起，2019-2023年CAGR达14.6%，高于全球水平。
现在，全球光刻胶商场首要被国外企业独占，日本的东京应化、日本JSR、住友化学和美国陶氏杜邦占有全球约70%的商场比例。东京应化归纳实力位列榜首，除了在ArF光刻胶范畴以16%的市占率坐落JSR（25%）、信越化学（22%）、住友化学（17%）之后，在G/I线光刻胶、KrF光刻胶及EUV光刻胶三个范畴的比例均位列榜首，其间在EUV光刻胶范畴名列前茅，占有一半以上的比例。
上文所提陶氏化学于2017年9月宣告与杜邦化工合并成陶氏杜邦（DowDuPont），该公司成为全球仅次于巴斯夫（BASF）的第2大化工企业。日本的JSR占全球光刻胶商场30%的比例，其于6月26日被日本政府支撑的出资公司（JIC）以63亿美元的价格收买，可见日本政府对维护先进半导体技能公司的注重程度。
在国内代替产品中，PCB光刻胶占比最高，而面板、半导体光刻胶占比低，光刻胶自给率显着缺乏。半导体光刻胶范畴，国产代替率在10%以内，其间G/I线光刻胶国产代替率相对较高，已构成必定规划的出售；其次是KrF光刻胶和ArF光刻胶，已可以批量供给或经过下流验证；而EUV光刻胶国产代替化程度最低，现在还处于研制阶段。
值得注重的是，随同光刻胶需求的攀升以及中美交易间的不断冲突，光刻胶国产代替之势势不可挡。此外为应对国外技能出口控制危险，多家我国半导体企业也添加了资料国产化率要求，添加国产半导体光刻胶进入量产产线进行测验验证的时机，加速了国产半导体光刻胶研制开展。
跟着国产化推动，我国本乡企业技能水平的不断进步，光刻胶产品研制不断添加。跟着芯片集成度的进步，适用于8英寸、12英寸半导体硅片的KrF、ArF是当下及未来短期内各光刻胶公司的重点发力商场，多家企业活跃布局光刻胶商场并获得开展。
在中高端光刻胶方面，彤程新资料集团股份有限公司（彤程新材）经过并购北京科华进行布局，其KrF光刻胶产品已批量供给国内首要12英寸、8英寸晶圆厂。彤程新材首要从事新资料的研制、出产、出售和相关交易事务，其子公司北京科华微电子具有自主开发的G/I线光刻胶和KrF光刻胶的完好产线，并同步开发并完结ArF光刻胶的产线建造，在国内较为抢先。
晶瑞电子资料股份有限公司（晶瑞电材）是一家集研制、出产和出售于一体的科技型新资料公司，首要产品包含超净高纯试剂、光刻胶、功能性资料、锂电池资料等，是国内I线月份，晶瑞电材表明子公司瑞红（姑苏）电子化学品股份有限公司自1993年出产光刻胶已30年，公司产品紫外宽谱光刻胶、G/I线光刻胶、TFT光刻胶等产品均现已过客户认证并量产多年，量产经验丰富，工艺老练；KrF光刻胶产品分辨率到达0.25-0.13μm的技能要求，现已过部分重要客户测验，KrF高端光刻胶部分品种已量产；Arf光刻胶在研。
江苏南大光电资料股份有限公司（南大光电）创建于2000年，是我国高纯电子资料的领军企业，首要事务掩盖先进前驱体资料、电子特气、光刻胶及配套资料等三大范畴。在ArF光刻胶范畴，其193nm ArF光刻胶现已过存储、逻辑两家芯片制作企业验证，将持续加速ArF光刻胶工业化脚步，准备量产。
深圳市容大感光科技股份有限公司（容大感光）是国内感光电子化学资料龙头企业，主营产品包含PCB光刻胶、显现用光刻胶、半导体用光刻胶等。容大感光3月份表明，公司的干膜光刻胶、显现用光刻胶、半导体光刻胶等产品现已面向商场完结了批量出售，其间部分产品已进入中心客户的供给链系统，该部分产品的出售将会是未来成绩开展的驱动点。但容大感光一起表明，这三个系列产品对公司的赢利影响有限。现在公司显现用光刻胶、半导体光刻胶的质量功能仅能满意中低端客户的要求，要开发中高端客户需求的产品尚存在技能瓶颈。
徐州博康信息化学品有限公司（徐州博康）成立于2010年3月，是国内少量可以工业化出产半导体中高端光刻胶单体的高新技能企业，具有全品类光刻胶研制布局，产品包含ArF光刻胶、KrF光刻胶、G/I线光刻胶、电子束胶、封装胶、BARC、TARC以及水基胶等，且光刻胶品种数量国内抢先，现在已有多款产品在国内12英寸晶圆厂导入验证和出售。
上海新阳半导体资料股份有限公司（上海新阳）上一年表明，公司在ArF光刻胶方面，ArF、ArF-i光刻胶研制开展顺畅，现已构成两个系列实验产品，样品现已进入客户端进行测验，此外ArF浸没式光刻胶产品已有样品在测验阶段。本年2月份，上海新阳发动5.8亿元光刻胶出资项目，估计年产500吨I线、KrF、ArF干/湿法光刻胶；年产10000吨光刻胶稀释剂；年产5000吨高挑选比氮化钛刻蚀液系列产品；年产15000吨干法蚀刻清洗液系列产品。项目拟于2023年获得施工许可证，2025年末前竣工，2026年6月底前投产。
除了半导体光刻胶企业外，面板光刻胶企业也在赶紧布局，以江苏雅克科技股份有限公司（雅克科技）为例，其经过外延并购不断扩大面板光刻胶地图。雅克科技旗下设有“新资料”、“新能源”和“电子”事业部。 2016 年，雅克科技先后收买了成都科美特和韩国Up Chemical，直接参股韩国COTEM公司然后具有了TFT正性胶（使用于TFT-LCD制程）等事务才能。
此外，飞凯资料、博砚电子、鼎材科技等企业也在面板用光刻胶方面均有所打破。
现在我国本乡产能首要会集在相对低端的光刻胶产品范畴，商场竞争格式仍以日美企业为主。因国内商场大势所趋及中美关系紧张，国产代替刻不容缓；但因其高壁垒，国内企业完结光刻胶大范围国产代替需要时日。
小鹏自动驾驶副总裁吴新宙离任 何小鹏：由于家庭和多方面的原因 已完结团队过渡
上一篇：防腐玻璃鳞片涂料介绍 下一篇：全球仅日美把握的技能国产霸占技能壁垒成功改写被迫局势
